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商品コード LP091420947SCH◆2025年1月版も出版されている時期ですので、お問い合わせ後すぐに確認いたします。
出版日 2023/1/17
英文 66 ページグローバル

EUV露光装置(極端紫外線露光装置)のグローバル市場成長展望 2023年〜2029年産業機械/工業市場

Global EUV Lithography Systems (Extreme Ultraviolet Lithography Systems) Market Growth (Status and Outlook) 2023-2029



全体要約

EUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場について調査・分析を行った市場レポート。
この研究によると、2029年までに世界のEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模は数百万米ドルに達する見込みです。市場は製品タイプ、アプリケーション、主要プレーヤー、地域別に詳細に分析されており、製品タイプは5nmおよび3nm、7nmおよび5nmに分かれています。アプリケーションは、テレコミュニケーション、AI、その他に分類されています。

市場は地域別にも分割されており、アメリカ、中国、ヨーロッパ、日本、韓国、東南アジア、その他の地域が含まれます。また、主要プレーヤーの詳細な分析も行われており、ASMLが主要な企業として挙げられています。

関連する質問

ASML

製造プロセスの微細化, 高性能半導体の需要増加, AIおよび通信分野の技術革新


概要

この研究によると、グローバルEUVリソグラフィーシステム(極端紫外線リソグラフィーシステム)市場の規模は、2029年までにXX米ドルに達する見込みです。
この報告書は、製品タイプ、アプリケーション、主要プレイヤー、主要な地域と国によるEUVリソグラフィシステム(極紫外リソグラフィシステム)市場の包括的な概要、市場シェア、および成長機会を提示します。
製品タイプによるセグメンテーション:
5ナノメートルと3ナノメートル
7ナノメートルおよび5ナノメートル
アプリケーションによるセグメンテーション:
電気通信
AI(人工知能)
その他
この報告書では、市場を地域別に分割しています。
アメリカ合衆国
中国
ヨーロッパ
その他の地域:
日本
韓国
東南アジア
その他の地域
レポートでは、市場競争の状況と市場の主要プレーヤーに関する詳細な分析も示されています。このレポートで取り上げられている主要プレーヤー:
ASML

※以下の目次にて、具体的なレポートの構成をご覧頂けます。ご購入、無料サンプルご請求、その他お問い合わせは、ページ上のボタンよりお進みください。

目次

  • 1 調査範囲

    • 1.1 市場イントロダクション
    • 1.2 対象年
    • 1.3 調査目的
    • 1.4 市場調査手法
    • 1.5 調査プロセスとデータソース
    • 1.6 経済指標
    • 1.7 通貨
  • 2 エグゼクティブサマリー

    • 2.1 世界市場概要
      • 2.1.1 グローバルのEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模、(2024年~2029年)
      • 2.1.2 EUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模、CAGR(地域別)
    • 2.2 EUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)セグメント、タイプ別
      • 2.2.1
      • 2.2.2
    • 2.3 EUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模:タイプ別
      • 2.3.1 グローバルのEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模、市場シェア(タイプ別)(2024年~2029年)
      • 2.3.2 グローバルのEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模、成長率(タイプ別)(2024年~2029年)
    • 2.4 EUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)セグメント、用途別
      • 2.4.1 通信
      • 2.4.2 AI
      • 2.4.3 その他
    • 2.5 EUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模:用途別
      • 2.5.1 グローバルのEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模、市場シェア(用途別)(2024年~2029年)
      • 2.5.2 グローバルのEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模、成長率(用途別)(2024年~2029年)
  • 3 EUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)主要企業

    • 3.1 主要プレイヤーのEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場への参入日
    • 3.2 主要プレーヤーのEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)製品
    • 3.3
    • 3.4 Funding/Investment
      • 3.4.1 Funding/Investment、地域別
      • 3.4.2 Funding/Investment、最終業界別
    • 3.5 主要プレーヤーのEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)の評価額と時価総額
    • 3.6 主要プレイヤーのM&A・事業拡大計画
    • 3.7 Market Ranking
    • 3.8 New Product/Technology Launches
    • 3.9 Partnerships, Agreements, and Collaborations
    • 3.10 Mergers and Acquisitions
  • 4 EUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)、地域別

    • 4.1 EUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模(地域別)(2024年~2029年)
    • 4.2 米国におけるEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模成長(2024年〜2029年)
    • 4.3 中国におけるEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模成長(2024年〜2029年)
    • 4.4 ヨーロッパにおけるEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模成長(2024年〜2029年)
    • 4.5 その他地域におけるEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模成長(2024年〜2029年)
  • 5 米国

    • 5.1 米国におけるEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模、タイプ別(2024年〜2029年)
    • 5.2 米国におけるEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模、用途別(2024年〜2029年)
  • 6 ヨーロッパ

    • 6.1 ヨーロッパにおけるEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模、タイプ別(2024年〜2029年)
    • 6.2 ヨーロッパにおけるEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模、用途別(2024年〜2029年)
  • 7 中国

    • 7.1 中国におけるEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模、タイプ別(2024年〜2029年)
    • 7.2 中国におけるEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模、用途別(2024年〜2029年)
  • 8 その他地域

    • 8.1 その他地域におけるEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模、タイプ別(2024年〜2029年)
    • 8.2 その他地域におけるEUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場規模、用途別(2024年〜2029年)
    • 8.3 日本
    • 8.4 韓国
    • 8.5 東南アジア
  • 9 市場ドライバー・課題・トレンド

    • 9.1 市場ドライバー・成長機会
    • 9.2 市場課題・リスク
    • 9.3 業界トレンド
  • 10 EUVリソグラフィシステム(極端紫外線リソグラフィシステム)市場の主要投資家

    • 10.1 Company A
      • 10.1.1 Company A : 企業詳細
      • 10.1.2 企業概要
      • 10.1.3 A社の投資先
      • 10.1.4 A社 主要開発と市場レイアウト
    • 10.2 Company B
      • 10.2.1 Company B : 企業詳細
      • 10.2.2 企業概要
      • 10.2.3 B社の投資先
      • 10.2.4 B社 主要開発と市場レイアウト
    • 10.3 Company C
      • 10.3.1 Company C : 企業詳細
      • 10.3.2 企業概要
      • 10.3.3 C社の投資先
      • 10.3.4 C社 主要開発と市場レイアウト
    • 10.4 Company D
    • 10.5 ……
  • 11 キープレイヤー分析

    • 11.1 ASML
  • 12 調査の結果・結論

※英文のレポートについての日本語表記のタイトルや紹介文などは、すべて生成AIや自動翻訳ソフトを使用して提供しております。それらはお客様の便宜のために提供するものであり、当社はその内容について責任を負いかねますので、何卒ご了承ください。適宜英語の原文をご参照ください。
“All Japanese titles, abstracts, and other descriptions of English-language reports were created using generative AI and/or machine translation. These are provided for your convenience only and may contain errors and inaccuracies. Please be sure to refer to the original English-language text. We disclaim all liability in relation to your reliance on such AI-generated and/or machine-translated content.”

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